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Die LabSpin Plattform von SUSS MicroTec steht für eine neue Generation maßgeschneiderter manueller Belacker/Entwickleranlagen für den Labor- und F&E Bereich. LabSpin Systeme prozessieren eine große Vielzahl von fotolithographischen Chemikalien, wobei das ausgereifte Design der Prozess-Schüssel außergewöhnlich gleichmäßige, präzise und wiederholgenaue Belackungsergebnisse ermöglicht. LabSpin Anlagen sind in zwei Versionen, einmal als Tischgerät oder als Modul für die Integration in eine Nassbank für Wafergrößen bis 150mm oder 200mm erhältlich. Sie ermöglichen die problemlose Verarbeitung unterschiedlichster Substrate, angefangen von Bruchstücken bis hin zu runden Wafern mit einem Durchmesser von 150/200mm oder quadratischen Substraten mit Seitenlängen von 100x100mm oder 150x150mm. Darüber hinaus verfügen LabSpin Belacker über eine kleine, platzsparende Stellfläche. Die große Vielfalt an Labspin Optionen ermöglicht ein ungewöhnlich breites Anwendungsspektrum. Belackungen können wahlweise auch mit einem Spritzendispenssystem oder einem vollautomatischen Dispenssystem durchgeführt werden. Randbelackung, Randentfernung oder Puddle Entwicklung sind als weitere Optionen erhältlich. |
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Das Gerät ist zum Belacken von 6“ x 6“ Substraten bis hin zu 8“ Wafern mit bis zu 10.000 U/min konfiguriert. Das Gerät ist als Einbaumodul oder als Stand-alone Modul mit integrierter Hotplate lieferbar. |
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Die Verarbeitung von 2“ x 2“ bis 6“ x 6“ Substraten oder 2“ bis 8“ Wafern ist möglich. |
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Beim Delta 12L handelt es sich um ein System mit folgenden Funktionen:
Nozzler:
Das System verarbeitet Wafer bis 12“, Substrate / Masken bis 9“ x 9“ bei 4.000 U/min. |
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Nozzler:
Wafer bis 12“ bzw. Substrate bis 9“x9“ können mit bis zu 4.000 U/min verarbeitet werden. |
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Um das Be- und Entladen zu erleichtern ist ein Pinlift in der Hotplate integriert. Modelle für andere Masse und Temperaturen sind verfügbar. |
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| Anfrage über das Kontaktformular |
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