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Basé sur la technologie éprouvée de bonding sur plaquettes SUSS, le modèle ELAN CB6L est prédestiné aux applications pour MEMS, Advanced Packaging et SOI. Le système est compatible avec les aligneurs de masque MA/BA pour les processus exigeant une précision d'alignement maximale. |
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Les substrats d'un diamètre maximal de 200 mm et de 6 mm d'épaisseur peuvent être traités. |
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Ce bonder traite simultanément deux substrats. Grâce à la chambre fermée avec une atmosphère spécifique, on obtient un débit élevé sans contamination après nettoyage. Le cluster SOI1200 est destiné à la production d'éléments micromécaniques, capteurs de température et de pression/accélération, unités optiques de traitement des données et circuits microélectroniques. |
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