Nassprozessmodule von SUSS MicroTec

SÜSS MicroTec HmX Square

Mit seinen Entwicklungs-, Ätz- und Reinigungsfunktionalitäten bietet die HMxSquare-Plattform hochwertige Substratbearbeitung für Anwendungen im Bereich Fotomasken wie auch in den Bereichen Optoelektronik, OELD und im speziellen Halbleiter-Back-end (MEMS).

Der manuell betriebene HMxSquare ermöglicht die Bearbeitung von Kleinserien oder Pilotproduktionen von Fotomasken und Spezialsubstraten.

Features

  • Verfahren für den 3 μm – 250 nm-Bereich
  • Hochmoderne Elektronik und Software  
  • Vielzahl an verschiedenen Chucks für schadenfreies Handling
  • Sichere Aufbewahrung der Chemikalien
  • Geringe Stellfläche (Sockelgehäuse: 960 x 1120 mm, Medienaufbewahrung: 300 x 1070 mm)

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