Nassprozesse

Nassprozesse

SÜSS MicroTec AD12 / SD12

Die Systeme AD12 bzw. SD12 erfüllen alle Anforderungen an einen modernen Spin-Prozessor für Flüssigmedien zur Verarbeitung von Substraten mit einem Durchmesser bis zu 12" (300 mm) oder Substraten / Masken bis zu 9" x 9" (230 x 230 mm).

Unterstützt werden zahlreiche Applikationen wie Fotolackentwicklung, Metall-Lift-off, Reinigung oder Resist-Stripping durch unterschiedliche Methoden der Materialaufbringung, wie Hochdruckspray (bis 120 bar) oder Kosten sparendes Medien-Recycling.

Weitere optionale Ausstattungsmerkmale wie punktgenaue Temperatursteuerung, Filtrierung und Wiederverwertung der Medien reduzieren den Medienverbrauch und ermöglichen  eine  optimale Betriebskostenkontrolle.

Merkmale

  • Wafer und Substrate bis 12“ (300mm)  oder Masken bis 9“x9“ (230x230mm)
  • Stand- Alone Edelstahlkabinett
  • Für wässrige oder Lösungsmittel basierte Flüssigkeiten
  • Dry wafer in / dry wafer out
  • Programmierbare Beschleunigungen und Drehzahlen bis  
    4.000 rpm
  • Programmierbarer Mediendispensearm
SÜSS MicroTec AD12 / SD12

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