Prozessöfen

Unitemp RTP 150

RTP-150, Beladung mittels Schublade

Rapid Thermal Vakuumprozessofen mit Aufheizrate bis zu 75 K/sec.

Die Hauptmerkmale sind

  • gute Temperaturuniformität
  • präzise, kontrollierte Aufheizraten und hohe Abkühlraten
  • niedrige Prozesswechselzeiten
  • komfortable Gaskontrolle
  • wenig Platzanforderung

Unser multifunktionalesTischgerät mit Frontbeladung ist geeinget für folgende Anwendungen:

  • ausgezeichnetes Werkzeug für verschiedene Halbleiterprozesse
  • Implementierung von neuen Halbleiterprozessen
  • Prototypenforschung
  • Qualitätskontrolle
  • "Annealing"-Prozesse
  • "Rapid Thermal" Prozesse
  • SiAu, SiAl, SiMo alloying
  • low k dielectrics
  • post implanting annealing
  • copper paste firing
  • resistor paste firing
  • andere Prozesse auf Anfrage
Unitemp RTP 150

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