SÜSS MicroTec MA100/150e Gen2

SÜSS MicroTec MA100/150e Gen2

Avec le MA100/150e Gen2, SÜSS MicroTec offre une plateforme d’aligneur de masque spécifique pour le traitement des semi-conducteurs de connexion sensibles, tels que les LED haute luminosité, les semi-conducteurs de circuits imprimés ou les MEMS HF. 

Propriétés : 

• Pour des substrats de jusqu’à 150 mm de diamètre
• Alignement supérieur, au verso et infrarouge, alignement avec masque à champ sombre
• Fonction d’alignement pour notamment des applications avec des lignes de marquage
• Exposition par contact ou proximité
• Optiques réducteurs de diffraction
• Manipulation simultanée de trois wafers
• Outillage de tailles différentes

Spécifications

• Résolution : jusqu’à 2,5 µm
• Précision d’alignement : < 0,7 µm
• Uniformité de la lumière : +/- 2,5 %
• Moyenne : jusqu’à 145 wafers/heure