Spezialisierte Reinigung für Fotomasken

Die optimale Lösung für F&E und Kleinserien von anspruchsvollen Substraten: Die HMx-Serie bietet hochwertige Substratbearbeitung und spezialisierte Reinigungsfunktionen für Fotomasken, Optoelektronik, OLED und spezielle Halbleiter-Backend-Anwendungen in einem kleinen, kompakten Gehäuse.
Kompaktes Reinraumdesign und herausragende Flexibilität: Die HMx-Serie vereint hochmoderne Entwicklungs-, Ätz- und Reinigungsfunktionen mit einer umfassenden Substrathandhabung. Die manuelle Beladung mit automatisierten Prozessschritten gewährleistet bewährte Zuverlässigkeit, während moderne Steuerungen und fortschrittliche Reinigungstechniken maximale Sicherheit für empfindliche Substrate bieten.
Mit innovativen Dosier- und Reinigungstechnologien liefert die HMx-Serie gleichbleibende, fehlerfreie Ergebnisse. Das modulare Design unterstützt mehrere Prozessoptionen und ermöglicht die Anpassung an unterschiedliche Anwendungen und strenge Gleichmäßigkeitsanforderungen sowohl für Pilotprojekte als auch für die Kleinserienproduktion.