Pulizia specializzata per fotomaschere

La soluzione ottimale per la ricerca e lo sviluppo e le piccole serie di substrati complessi: la serie HMx offre una lavorazione dei substrati di alta qualità e funzioni di pulizia specializzate per fotomaschere, optoelettronica, OLED e applicazioni specifiche di back-end dei semiconduttori, il tutto in un alloggiamento piccolo e compatto.
Design compatto per camere bianche ed eccezionale flessibilità: la serie HMx combina funzioni all’avanguardia di sviluppo, incisione e pulizia con una gestione completa dei substrati. Il caricamento manuale con fasi di processo automatizzate garantisce un’affidabilità comprovata, mentre i moderni sistemi di controllo e le tecniche di pulizia avanzate offrono la massima sicurezza per i substrati sensibili.
Grazie a tecnologie innovative di dosaggio e pulizia, la serie HMx offre risultati costanti e privi di difetti. Il design modulare supporta diverse opzioni di processo e consente l’adattamento a diverse applicazioni e a severi requisiti di uniformità, sia per progetti pilota che per la produzione in piccole serie.