SÜSS MicroTec ACS200 Gen3

SÜSS MicroTec ACS200 Gen3

La plateforme entièrement automatique Coat & Develop (laquage et développement) ACS200 Gen3 présente une conception modulaire et s’adapte parfaitement à votre environnement de travail grâce à son grand volume de production.

Elle offre des technologies modernes pour les processus humides et séduit par sa multitude de configurations dans de nombreuses applications. 

Propriétés :

• Pour des diamètres de substrats de 2″ à 200 mm
• Étalement classique ou technologie GYRSET® brevetée pour forte topographie ou substrats anguleux
• Laquage par pulvérisation avec la technologie brevetée AltaSpray
• Processus de développement aqueux ou solvant
• Grande sélection de systèmes de distribution pour processus de développement