SÜSS MicroTec ACS200 Gen3

La piattaforma ACS200 Gen3 completamente automatica Coat & Develop è caratterizzata da un design modulare e può essere perfettamente adattata al vostro ambiente di lavoro grazie al suo elevato volume di produzione.

Offre una tecnologia all’avanguardia per i processi a umido e una moltitudine di configurazioni per un’ampia gamma di applicazioni.

Caratteristiche :

• Per diametri di substrato da 2″ a 200 mm
• Stesura convenzionale o tecnologia brevettata
• GYRSET® per substrati a forte topografia o angolati
• Verniciatura a spruzzo con tecnologia brevettata AltaSpray
• Processi di sviluppo a base acquosa o a solvente
• Ampia scelta di sistemi di dosaggio per i processi di sviluppo