SÜSS MicroTec MA/BA Gen4 Pro

La piattaforma di allineamento maschere MA/BA8 Gen3 offre un’ampia gamma di applicazioni grazie alle soluzioni di allineamento, esposizione e stampa progettate in modo intelligente.

È adatta non solo per la ricerca e lo sviluppo, ma anche per la produzione assistita dall’operatore.

Caratteristiche :

• Per substrati fino a 200 mm di diametro
• Allineamento superiore, inverso e a infrarossi
• Allineamento automatico mediante elaborazione delle immagini
• Allineamento da wafer a wafer
• Esposizione a contatto o di prossimità
• Ottica di riduzione della diffrazione
• Micro e nanolitografia su superfici piccole o grandi
• Attivazione selettiva o globale del plasma

Specifiche tecniche:

• Risoluzione: fino a 2,5 µm
• Precisione di allineamento: < 0,25 µm
• Uniformità della luce: +/- 2,5