SÜSS MicroTec ACS200 Gen3

Die vollautomatische Coat & Develop-Plattform ACS200 Gen3 ist modular konfigurierbar und durch ihren hohen Durchsatz speziell für Produktionsumgebungen geeignet.

Sie bietet modernste Technologien für Nassprozesse und überzeugt durch hohe Konfigurationsvielfalt in zahlreichen Anwendungen.

Features

• Für Substratdurchmesser von 2“ bis 200 mm
• Klassisches Spin-Coaten oder patentierte GYRSET®-Technologie für hohe Topografien oder eckige Substrate
• Sprühbelackung mit patentierter AltaSpray-Technologie
• Wasser- oder lösungsmittelbasierte Entwicklerprozesse
• Große Auswahl an Dispense-Systemen für Entwicklerprozesse