Four de traitement

Unitemp RTP 150

RTP-150, chargement par tiroir

Four de traitement sous vide thermique rapide avec vitesse de chauffage jusqu’à 75 k/sec

Ses principales caractéristiques sont les suivantes : 

• Bonne homogénéité de température
• Vitesses de chauffe précises et contrôlées et vitesses élevées de refroidissement
• Temps réduits de changement des processus
• Régulation de gaz aisée
• Peu d’encombrement

Notre appareil multifonction, à poser sur une table et à chargement frontal s’adapte parfaitement à diverses applications.

• Excellent outil de travail pour différents processus à semi-conducteurs
• Implémentation de nouveaux processus à semi-conducteurs
• Recherche de prototypes
• Processus de recuite
• Traitement thermique rapide
• Alliages SiMo, SiAu, SiAl
• Diélectriques à faible permittivité (low-k)
• Recuite post-implantation
• Cuisson pâte de cuivre
• Cuisson pâte de résistance
• Autres processus sur demande