RCD8: macchina semiautomatica per il rivestimento e lo sviluppo

La piattaforma RCD8 offre un processo di rivestimento e sviluppo preciso per wafer fino a 200 mm. Progettata per la ricerca e lo sviluppo e per la produzione in piccole serie, combina un controllo stabile del processo con risultati riproducibili. Componenti di alta qualità garantiscono l’affidabilità industriale, mentre i mandrini intercambiabili per substrati consentono la lavorazione di diversi materiali e geometrie dei wafer.