Lavorazione delle fotomaschere di nuova generazione

La serie MaskTrack Pro è stata sviluppata per soddisfare i requisiti più rigorosi delle tecnologie 193i 1x nm Half-Pitch (hp) DPT, litografia a ultravioletti estremi (EUVL) e litografia a nanostampa (NIL), grazie a tecniche innovative volte a massimizzare le prestazioni delle maschere.
Poiché l’integrità delle maschere gioca un ruolo sempre più importante per il successo dei processi litografici avanzati, la serie MaskTrack Pro è l’unica piattaforma progettata specificamente per l’EUVL.
Il sistema di applicazione a ugello A+ distribuisce uniformemente lo sviluppatore su tutta la maschera, garantendo una bagnatura della superficie e un ricambio del mezzo rapidi e uniformi, per difetti minimi e una qualità ottimale.
Streaming acustico per uno sviluppo eccellente: utilizzando l’energia MegaSonic per eccitare la superficie, la tecnologia ASONIC® aumenta il ricambio dei fluidi di sviluppo per un utilizzo uniforme e una migliore uniformità del CD.
Pulizia a doppia frequenza – pulizia a ultrasuoni, pulizia Fulljet ad alta pressione, pulizia a spazzola, nonché SC1/SPM in situ, pulizia a secco UV, processi DI ultrapuri, pulizia del retro e opzioni ESD-safe: la serie Masktrack Pro offre tecnologie di pulizia altamente avanzate che soddisfano i moderni requisiti delle camere bianche.