Fotomaskenprozessierung der nächsten Generation

Die MaskTrack Pro Serie wurde entwickelt, um die strengsten Bedingungen der 193i 1x nm Half-Pitch (hp) DPT, Extreme-Ultraviolet-Lithography (EUVL) und Nanomprint-Lithography (NIL) mit innovativen Techniken zur Maximierung der Maskenleistung zu erfüllen.
Da die Maskenintegrität eine immer größere Rolle für den Erfolg fortschrittlicher lithografischer Verfahren spielt, ist die MaskTrack Pro Serie die einzige Plattform, die speziell für EUVL entwickelt wurde.
Das A+ Düse-Aufbringsystem verteilt die Entwickler gleichmäßig über die gesamte Maske und sorgt so für eine schnelle und gleichmäßige Oberflächenbenetzung und einen Medienaustausch – für minimale Defekte und optimale Qualität.
Akustisches Streaming für hervorragende Entwicklung: Durch den Einsatz von MegaSonic-Energie zur Anregung der Oberfläche erhöht die ASONIC-Technologie® den Austausch von Entwicklermedien für eine gleichmäßige Ausnutzung und verbesserte Gleichmäßigkeit der CD.
Zweifrequenz – Megaschallreinigung, Hochdruck-Fulljet-Reinigung, Bürstenreinigung sowie in-situ SC1/SPM, UV-Trockenreinigung, ultrareine DI-Verfahren, Rückseitenreinigung und ESD-sichere Optionen: Die Masktrack Pro-Serie bietet hochentwickelte Reinigungstechnologien, die den modernen Reinraumanforderungen entsprechen.