Wet Bench System uCHEM
SÜSS MicroTec AD12 / SD12
Les systèmes AD12 ou SD12 répondent à toutes les exigences d’un processeur Spin moderne pour milieux liquides, pour le traitement de substrats avec un diamètre pouvant aller jusqu’à 12″ (300 mm) pour des substrats/masques pouvant aller jusqu’à 9″x9″ (230 x 230 mm).
De nombreuses applications telles que le développement de laque photosensible, le retrait d’outil métallique, le nettoyage ou le retrait de résine sensible par différentes méthodes d’application de matériau comme la pulvérisation haute pression (jusqu’à 120 bars) ou le recyclage de supports à moindres coûts, sont prises en charge.
D’autres caractéristiques facultatives de l’équipement telles que le régulateur de température précis, le filtrage et le recyclage des supports réduisent la consommation de fluides et permettent un contrôle optimal des coûts de fonctionnement.
Caractéristiques
- Disques et substrats pouvant aller jusqu’à 12″ (300 mm) ou masques 9“x9“ (230×230 mm)
- Coffre en acier inoxydable indépendant
- Pour liquides à base de solutions aqueuses ou de solvants
- Disque en milieu sec interne/Disque en milieu sec externe
- Accélérations et vitesses programmables jusqu’à
- 4000 rpm
- Mécanisme de distribution de fluide programmable
SÜSS MicroTec HmX Square
Avec ses fonctionnalités de nettoyage, de gravure et de développement, la plateforme HMxSquare offre un traitement des substrats de grande qualité dans les domaines des masques photolithographique, de l’optoélectronique, de l’électonique optique, OLED et des semi-conducteurs back-end (MEMS).
Le système automatique HMxSquare, permet un traitement des petites séries ou les productions pilots de substrats spéciaux.
Propriétés :
- Procédé pour la plage 3 µm – 250 nm
- Électronique et logiciel ultra modernes
- Grande diversité de chucks pour une manipulation sans effet d’ombre
- Stockage sécurisé des produits chimiques
- Faible encombrement (960 x 1120 mm pour le système et 300 x 1070 mm pour le cabinet de médias)
