
Der MJB4 ist das ideale manuelle Mask Aligner für Forschung und Kleinserienproduktion. Das kompakte, benutzerfreundliche und kosteneffiziente System ist mit einer zuverlässigen, hochpräzisen Maskenausrichtung und hochauflösenden Druckfunktion für Substrate und Teile bis zu 100 mm ausgestattet. Der MJB4 kombiniert bewährte Lithografie-Leistung mit Prozessvielfalt für Forschung und Kleinserienproduktion. Das System unterstützt empfindliche Materialien und UV-NIL und ist dank seiner Submikrometer-Auflösung und schnellen Substratwechsel eine kosteneffiziente Lösung.
Der MJB4 bietet zuverlässige Lithografie durch MO Exposure Optics®, mehrere Belichtungsmodi und modulare Upgrades. Mit Submikron-Auflösung und UV-NIL-Optionen bietet er eine flexible technische Grundlage für fortgeschrittene F&E und Pilotproduktion.