SÜSS MicroTec MA100/150e Gen2
Mit dem MA100/150e Gen2 bietet SÜSS MicroTec eine Mask Aligner-Plattform speziell für die Verarbeitung empfindlicher Verbindungshalbleiter, wie HB-LEDs, Leistungshalbleiter oder HF-MEMS an.
Features
- Bis zu 150 mm Substratgröße
- Oberseiten-, Rückseiten-, Infrarotjustierung, Justierung mit Dunkelfeldmasken
- Alignment-Funktion u.a. für Anwendungen mit Ritzlinien
- Kontakt- und Abstandsbelichtung
- beugungsreduzierende Optik
- gleichzeitiges Handling von drei Wafern
- Multi-Size-Tooling
Spezifikationen
- Auflösung: bis zu 2,5 µm
- Justiergenauigkeit: <0.7 µm
- Lichtgleichmäßigkeit: +/- 2.5%
- Durchsatz: bis zu 145 Wafer/Stunde“