Allineatore di maschere semiautomatico e impronta

L’MA12 Gen3 è un allineatore di maschere semiautomatico per wafer fino a 300 mm, che combina la litografia collaudata con un’avanzata tecnologia di impronta. Offre un’esposizione economicamente vantaggiosa, un’elevata precisione di sovrapposizione e flessibilità di processo per MEMS, packaging avanzato e ricerca e sviluppo.

L’MA12 Gen3 offre funzioni litografiche versatili, adatte sia alla ricerca e sviluppo industriale che ad ambienti di produzione di medie e grandi dimensioni. Il suo design compatto consente di risparmiare spazio in camera bianca, mentre l’interfaccia intuitiva ne semplifica l’utilizzo. Il mask aligner è dotato della più recente tecnologia SUSS e garantisce risultati stabili e di alta qualità, oltre a funzionalità migliorate per processi standard, avanzati e di fascia alta.

L’MA12 Gen3 massimizza la resa e garantisce risultati riproducibili anche in condizioni difficili. Dal livellamento migliorato e dall’ottica di esposizione MO alla gestione specifica per wafer deformati e materiali sensibili, ogni caratteristica è progettata per garantire affidabilità e prestazioni.