Serie LabSpin: sistemi di rivestimento a rotazione e sviluppo          

Flessibili, precisi e sicuri: LabSpin6 e LabSpin8 sono la nuova generazione di sistemi manuali di spin coater e sviluppatori per wafer fino a 150 e 200 mm. La serie LabSpin è stata sviluppata appositamente per ambienti di laboratorio e di ricerca e sviluppo e garantisce risultati uniformi e ripetibili per una vasta gamma di prodotti chimici fotolitografici, il tutto in un design compatto.

Dalla prototipazione rapida allo sviluppo avanzato dei processi, LabSpin6 e LabSpin8 si adattano perfettamente alle vostre esigenze. Configurate le dimensioni del wafer, il mandrino, le opzioni di rivestimento e i moduli aggiuntivi man mano che la vostra ricerca e sviluppo evolve. Grazie al loro design compatto e alla loro tecnologia intelligente, entrambi i sistemi richiedono poco spazio e forniscono risultati precisi e ripetibili.