LabSpin Serie Spin Coater & Entwickler          

Flexibel, präzise und sicher: LabSpin6 und LabSpin8 sind die neueste Generation manueller Spin-Coater- und Entwicklersysteme für Wafer bis 150 und 200 mm. Die LabSpin-Serie wurde speziell für Labor- und F&E-Umgebungen entwickelt und liefert einheitliche, wiederholbare Ergebnisse für eine Vielzahl von fotolithografischen Chemikalien bei kompakter Bauweise.

Vom schnellen Prototyping bis zur fortgeschrittenen Prozessentwicklung passen sich LabSpin6 und LabSpin8 nahtlos an Ihre Bedürfnisse an. Konfigurieren Sie Wafergröße, Chuck, Beschichtungsoptionen und zusätzliche Module, wenn sich Ihre Forschung und Entwicklung weiterentwickelt. Dank ihres kompakten Designs und ihrer intelligenten Technologie benötigen beide Systeme nur wenig Platz und liefern präzise, wiederholbare Ergebnisse