Allineatore di maschere semiautomatico e impronta

La serie MA/BA Gen4 offre due piattaforme per l’allineamento semiautomatico delle maschere e la lavorazione a impronta per applicazioni standard e di fascia alta. Il sistema combina la collaudata tecnologia litografica SUSS con nuove funzioni di automazione ed ergonomia, garantendo prestazioni stabili, maggiore sicurezza e facilità d’uso per la ricerca, la produzione pilota e gli ambienti di processo più esigenti.

La serie MA/BA Gen4 è stata sviluppata per un utilizzo intuitivo ed ergonomico. Riduce il carico di lavoro dell’operatore e garantisce la coerenza del processo nelle applicazioni MEMS, di packaging e di stampa.

Dotata di MO Exposure Optics® e delle più recenti tecnologie di impronta SUSS, la serie MA/BA Gen4 offre prestazioni ottiche di punta, allineamento preciso e risoluzione eccellente. Il suo design modulare supporta il packaging avanzato, MEMS/NEMS, l’integrazione 3D, i semiconduttori di giunzione, i LED, la microottica, l’AR e l’optoelettronica.