Halbautomatischer Mask Aligner und Imprint

Die MA/BA Gen4-Serie stellt zwei Plattformen für halbautomatische Mask Aligner und Imprint-Verarbeitung für Standard- und High-End-Anwendungen dar. Das System kombiniert die bewährte SUSS Lithografie-Technologie mit neuen Automatisierungs- und Ergonomiefunktionen und gewährleistet stabile Leistung, erhöhte Sicherheit und benutzerfreundliche Bedienung für Forschung, Pilotproduktion und anspruchsvolle Prozessumgebungen.

Die MA/BA Gen4 wurde für eine intuitive und ergonomische Bedienung entwickelt. Sie reduziert den Arbeitsaufwand des Bedieners und gewährleistet Prozesskonsistenz bei MEMS-, Verpackungs- und Druckanwendungen.

Ausgestattet mit MO Exposure Optics® und den neuesten SUSS-Imprinting-Technologien, bietet die MA/BA Gen4-Serie optische Spitzenleistungen, präzise Ausrichtung und hervorragende Auflösung. Ihr modulares Design unterstützt fortschrittliches Packaging, MEMS/NEMS, 3D-Integration, Verbindungshalbleiter, LED, Mikrooptik, AR und Optoelektronik.