Allineatore di maschere completamente automatico

L’MA200 Gen3 è progettato per la produzione automatizzata in serie di wafer e substrati quadrati fino a 200 mm. Combina tecnologie di allineamento innovative con sistemi di automazione intelligenti ed è il sistema ideale per i sistemi microelettromeccanici (MEMS), i componenti ad alta frequenza (RF) e i dispositivi di potenza.

Precisione, produttività e flessibilità in un unico dispositivo: l’MA200 Gen3 offre una tecnologia innovativa per un’elevata precisione, mentre le modalità di processo flessibili e l’automazione garantiscono rendimento ed efficienza per MEMS, strutturazione 3D e applicazioni di packaging avanzate come integrazione 3D, fan-out, bumping, semiconduttori di interconnessione e sensori di immagine.

Progettato per ambienti ad alto volume, l’MA200 Gen3 combina allineamento di precisione, ottiche avanzate e gestione versatile per fornire risultati stabili e riproducibili in vari processi di litografia e packaging.